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2005年，被国家农业部授予全国50个“生态家园先进村”之一。

2005年，被河北省政府授予“生态家园富民工程先进村”。

黄家营位于东庞村公社西偏南1公里，为黄家营大队驻地。地势平坦，耕地面积944亩，为草甸褐土和潮土两类土壤。全村共620人，均为汉族，以农为主。主产小麦、玉米、谷子、棉花。该村在明代永乐年间，始有黄氏奉诏从山西洪洞县老鸦窝迁来定居。故以姓氏得名黄家营。

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化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。

化学机械平坦化是在机械抛光的基础上根据所要抛光的表面加入相应的化学添加剂从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。

氧化硅抛光主要被应用于平坦化金属层间淀积的层间介质（ILD），其基本机理是Cook理论。磨料中的水和氧化硅发生表面水合作用，从而使氧化硅的硬度、机械强度等有效降低，在机械力的作用下将氧化硅去除。氧化硅的去除速率主要由Preston方程表达。

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