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磨料是平坦化工艺中研磨材料和化学添加剂的混合物，研磨材料主要是石英，二氧化铝和氧化铈，其中的化学添加剂则要根据实际情况加以选择，这些化学添加剂和要被除去的材料进行反应，弱化其和硅分子联结，这样使得机械抛光更加容易。在应用中的通常有氧化物磨料、金属钨磨料、金属铜磨料以及一些特殊应用磨料。台湾主要的厂商有长兴科技公司。
抛光垫通常使用聚亚胺脂（Polyurethane）材料制造，又称聚氨酯抛光垫、抛光阻尼布、氧化铈抛光垫，利用这种多孔性材料类似海绵的机械特性和多孔特性，表面有特殊之沟槽，提高抛光的均匀性，垫上有时开有可视窗，便于线上检测。通常抛光垫为需要定时整修和更换之耗材，一个抛光垫虽不与晶圆直接接触，但使用寿命约仅为45至75小时。在全球不断并购下，目前主要生产厂商为陶氏化学集团（DOW CHEMICALS）及中国龙头合肥宏光研磨科技生产。
CMP设备与晶圆生产中的抛光设备有相似之处（见上图），但集成电路硅片中很多材料的加入以及金属层的增加使得CMP设备不能如同抛光设备那样简单，而需要加入特别的过程获得平坦化的效果。这主要体现在对抛光厚度、抛光速率的检测上，被称作终点检测，通常有电机电流终点检测、光学终点检测。
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阿明·纳赛尔拥有King Fahd University of Petroleum and Minerals石油工程学士学位。
1982年，阿明·纳赛尔加入沙特阿拉伯国家石油公司，当时他是沙特阿拉伯国家石油公司石油生产部门的一位工程师。 1997年，他成为该公司的拉斯坦努拉生产部经理。后来他成为沙特阿拉伯北部地区生产工程部以及Safaniya Oil Field海上和陆上生产部经理。 2004年，阿明·纳赛尔成为该公司的首席石油工程师，并于2008年成为沙特阿拉伯国家石油公司上游产业高级副总裁。
2015年5月，阿明·纳赛尔该公司成为沙特阿拉伯国家石油公司代理总裁兼首席执行官，并于2015年9月正式成为总裁。
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FRA 若-威尔弗里德·特松加（分组赛）
排名决定由: 1) 胜场; 2) 赛场; 3) 二位球员：对阵纪录; 4) 二位球员：胜盘率或胜局率; 5) 依照赛委会的决定
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