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地形的特点是沙漠平原，植被很少，野生动物有限，并且有因为被山谷中断而孤立的山群。
日间的温度在太阳下可能会达到50°C（145°F）。
根据传统的叙述，阿法尔人分为两种:Asayahamara（红人）和Adoyahamara（白人）。Asayahamara（红人）是原来从埃塞俄比亚高地入侵的一群人的后裔。Asayahamara（红人）主导社会地位，并声称拥有土地，而Adoyahamara（白人）往往是牧民。
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CMP技术早期主要应用于光学镜片的抛光和晶圆的抛光。
20世纪70年代，多层金属化技术被引入到集成电路制造工艺中，此技术使芯片的垂直空间得到有效的利用，并提高了器件的集成度。但这项技术使得硅片表面不平整度加剧，由此引发的一系列问题（如引起光刻胶厚度不均进而导致光刻受限）严重影响了大规模集成电路（LSI）的发展。针对这一问题，业界先后开发了多种平坦化技术，主要有反刻、玻璃回流、旋涂膜层等，但效果并不理想。80年代末，IBM公司将CMP技术进行了发展使之应用于硅片的平坦化，其在表面平坦化上的效果较传统的平坦化技术有了极大的改善，从而使之成为了大规模集成电路制造中有关键地位的平坦化技术。
化学机械平坦化是表面全局平坦化技术中的一种，既可以认为是化学增强型机械抛光也可以认为是机械增强型湿法化学刻蚀。该工艺使用具有研磨性和腐蚀性的磨料，并配合使用抛光垫和支撑环。抛光垫的尺寸通常比硅片要大。抛光垫和硅片被一个可活动的抛光头压在一起，而塑料的支撑环则用于保持硅片的位置。硅片和抛光垫同时转动（通常是以相反的方向转），但是它们的中心并不重合。在这个过程中硅片表面的材料和不规则结构都被除去，从而达到平坦化的目的。平面化后的硅片表面使得干式刻蚀中的图样的成型更加容易。平滑的硅片表面还使得使用更小的金属图样成为可能，从而能够提高集成度。
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身体颜色美丽，头胸部为深褐色，腹部背面有鹅黄色和银白色相间的斑纹，腹面有两条鹅黄色花纹；纺绩突周围为鲜红色，足有黑黄相间的环纹。
分布于印度至日本、台湾以及中国大陆的四川、北京、山东、辽宁、安徽、浙江、河南、湖南、贵州、云南等地，主要生活于灌木丛。
* 类棒络新妇（学名：Nephila clavata cavaleriei），Schenkel于1963年命名。在中国大陆，分布于甘肃等地。该物种的模式产地在甘肃。
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